合作品牌
Trymax NEO200A系列自动干法去胶
所属分类：
Trymax
干法去胶
微纳加工中心
产品附件：
【主要应用】
前道：Light Etching；Descum strip；PR Ashing；离子注入后，光刻后，镀膜前等工艺过程；
后道/先进封装/3D IC：Descum Bumping；Plasma Treatment；Wafer Cleaning等。
【主要参数】
• 双Cassette
• 3轴机械手
• 单射频源配置（13.56MHz）
• 单微波源配置（2.45GHz）
• 双源配置（RF/MW）
• DCP双源（RF/RF）
• 适应wafer 100mm~200mm
