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单面/双面光刻系统
晶圆键合系统
纳米压印光刻系统
测试与辅助工艺设备
所属分类:
涂胶显影
产品附件:
产品简介:
EVG 120是一款全自动晶圆涂胶显影设备,可用于喷胶、旋涂、烘烤、冷却和显影,适用于小规模自动化生产。
主要特点及参数:
·最大可适用于8寸(200mm)晶圆
·最多可配置2个工艺模组和10个冷/热板
·专业的化学品外存柜
·采用独特技术减少材料消耗,保证高均匀性