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单面/双面光刻系统
晶圆键合系统
纳米压印光刻系统
测试与辅助工艺设备
所属分类:
键合对准
微纳加工中心
产品附件:
产品简介:
EVG 620BA是一款半自动研发型键合对准设备,采用双面光学对准,拥有全自动高分辨率底部摄像头,适合于EVG501、EVG510、EVG520键合机的键合对准。
主要特点及参数:
·最大支持6英寸(150mm)晶圆
·支持2层或3层晶圆堆叠对准
·对准精度:
底部对准精度≤±2μm 3σ
透明对准精度≤±1μm 3σ
·可选配红外对准
·可升级至自动对准