EVG 610（NIL）纳米压印系统
所属分类：
纳米压印光刻系统
纳米压印光刻
微纳加工中心
产品附件：
产品简介：
EVG 610（NIL）是一款基于EVG610光刻机的紫外纳米压印设备，可针对压印、光刻、对准功能进行快速转换。
主要特点及参数：
·最大支持6英寸（150mm）晶圆
·最高分辨率可达40nm（取决于模版和工艺条件）
·支持汞灯或UV-LED光源
·可选配功能：
键合对准
红外对准
纳米压印光刻（NIL）
微接触印刷
所属分类：
纳米压印光刻系统
纳米压印光刻
微纳加工中心
产品附件：
产品简介：
EVG 610（NIL）是一款基于EVG610光刻机的紫外纳米压印设备，可针对压印、光刻、对准功能进行快速转换。
主要特点及参数：
·最大支持6英寸（150mm）晶圆
·最高分辨率可达40nm（取决于模版和工艺条件）
·支持汞灯或UV-LED光源
·可选配功能：
键合对准
红外对准
纳米压印光刻（NIL）
微接触印刷
