EVG 510 HE热压印系统
所属分类：
纳米压印光刻系统
纳米压印光刻
微纳加工中心
产品附件：
产品简介：
EVG 510 HE是一款基于EVG510设备的半自动热压印设备，适用于所有聚合物，可应用于高质量的纳米图形转移。
主要特点及参数：
·最大支持8英寸（200mm）晶圆
·最大压力：60KN
·最大温度：350℃（可选配至550℃）
·最大真空度：0.1mbar（可选配至10-5mbar）
所属分类：
纳米压印光刻系统
纳米压印光刻
微纳加工中心
产品附件：
产品简介：
EVG 510 HE是一款基于EVG510设备的半自动热压印设备，适用于所有聚合物，可应用于高质量的纳米图形转移。
主要特点及参数：
·最大支持8英寸（200mm）晶圆
·最大压力：60KN
·最大温度：350℃（可选配至550℃）
·最大真空度：0.1mbar（可选配至10-5mbar）
