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单面/双面光刻系统
晶圆键合系统
纳米压印光刻系统
测试与辅助工艺设备
所属分类:
永久键合
微纳加工中心
产品附件:
产品简介:
EVG 501是一款灵活的晶圆键合系统,支持例如阳极键合、热压键合、浆料中间层键合、熔融键合、硅硅直接键合等常见的晶圆键合工艺。
主要特点及参数:
·最大支持8英寸(200mm)晶圆
·支持从单芯片键合到晶圆键合
·最大键合压力:20KN
·最大键合温度:450℃
·最大真空度:0.1mbar(可选配至10-5mbar)