EVG 6200NT光刻机
所属分类：
单面/双面光刻系统
单面/双面光刻
产品附件：
产品简介：
EVG 6200NT是620NT的增强型，提供先进的掩膜对准技术。可选择半自动或全自动配置，满足大批量生产和Fab标准。
主要特点及参数：
·最大支持8英寸（200mm）晶圆
·支持易碎、薄片及翘曲晶圆的处理，可快速转换多尺寸晶圆
·全自动顶部及底部对准：
顶部对准精度≤±0.5μm
底部对准精度≤±1μm
红外对准精度≤±2μm（取决于衬底材料）
·支持汞灯或UV-LED光源
·支持半自动原位升级为全自动
·可选配功能：
键合对准
红外对准
纳米压印光刻（NIL）
