EVG IQ Aligner光刻系统
所属分类：
单面/双面光刻系统
单面/双面光刻
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产品简介：
EVG IQ Aligner是一款高自动化的光刻工艺平台，可集成多种高精度对准技术，可对应在晶圆及多种基板上的应用，适用于大型生产线。
主要特点及参数：
·最大支持8英寸（200mm）晶圆
·支持易碎、薄片及翘曲晶圆的处理
·全自动顶部及底部对准：
顶部对准精度≤±0.5μm
底部对准精度≤±1μm
·支持Casettes, SMIF或FOUP上料
·可选配功能：
红外对准（透射或反射）
